Kartu jaringan penapis enam takal GUANLIN, elemen pengumpul habuk tanpa alat untuk kerja logam dan salutan serbuk.

Kartu jaringan enam takal yang boleh dilepas pantas merupakan elemen penapis utama dalam pengumpul habuk jenis kartrij. Alih-alih memutar nat bersayap, operator hanya perlu memutar kartrij sebanyak suku putaran dan keenam-enam takal itu akan melepaskannya — tiada alat, tiada perlu membuka panel akses secara rumit, dan tiada risiko nat terjatuh ke dalam hopper. Kartrij GUANLIN yang boleh dilepas pantas dibina di atas platform media berlipat yang sama seperti kartrij piawai kami, dengan cincin takal dikimpal secara tepat supaya segel sentiasa duduk rata setiap kali dipasang.

Mengapa Memilih Kartrij GUANLIN 6-Takal yang Boleh Dilepas Pantas

1. Penukaran tanpa alat — suku putaran sahaja sudah cukup untuk melepaskan kartrij, mengurangkan masa penyelenggaraan bagi setiap elemen.
2. Pemasangan segel yang rata — cincin takal yang dikimpal memastikan gasket sentiasa tegak terhadap plat salur sehingga tiada aliran sampingan (bypass).
3. Luas penapisan yang tinggi — pakej lipatan dalam memberikan keluasan permukaan media yang besar dalam bungkusan yang padat.
4. Pilihan media — poliester, membran PTFE, gentian nano, tahan api atau anti-statik, disesuaikan mengikut jenis habuk.
5. Keserasian luas — sesuai untuk pengumpul kartrij piawai dan kebanyakan setara OEM.
6. Panjang tersuai — ketinggian unsur piawai dan bukan piawai tersedia.

Skenario Aplikasi

Bengkel pemesinan logam dan fabrikasi
Pengumpul wap pengisaran, pemotongan dan pengimpalan menggunakan kartrij lepas-pantas supaya operator boleh menukar unsur semasa rehat bergilir, bukannya memanggil pasukan penyelenggaraan.

Letupan bebola besi dan persiapan permukaan
Beban habuk tinggi bermaksud penukaran kartrij kerap; cincin lepas-pantas menghilangkan botol leher.

Kabin Pelapis Serbuk
Litar limpahan cat sembur dan pemulihan serbuk memerlukan pertukaran unsur yang pantas dan bersih untuk mengekalkan kelancaran pengeluaran.

Perkayuan dan pemprosesan MDF
Habuk pengisaran halus membebankan kartrij dengan cepat; pertukaran tanpa alat mengekalkan prestasi pengekstrakan secara stabil.

Pengendalian serbuk kimia dan farmaseutikal
Penempatan getah kedap yang sekata menghalang laluan produk dan pencemaran silang.

Pemotongan laser dan pengekstrakan wap plasma
Wap sub-mikron memerlukan media yang cekap serta penyelenggaraan pantas semasa jendela pengeluaran.

Keadaan Kerja yang Sesuai

• Kolektor kartrij piawai dan suhu tinggi
• Debu kering dan wap, tanpa kondensasi
• Media dipilih untuk menyesuaikan kimia debu dan suhu
• Pembersihan jet denyut

Spesifikasi produk

Soalan Lazim

Soalan 1. Apakah maksud enam-lug?
Enam batang kunci pada cincin atas membolehkan kartrij dilepaskan dengan putaran suku, tanpa memerlukan alat.

Soalan 2. Adakah ia sesuai untuk pengumpul saya?
Ia sesuai dengan pengumpul kartrij piawai; hantar dimensi unsur anda untuk pengesahan.

Soalan 3. Media manakah yang patut saya pilih?
Polieste untuk habuk biasa, membran PTFE untuk habuk di bawah mikron dan habuk melekit, tahan api atau anti-statik untuk habuk berbahaya.

Soalan 4. Adakah getah penutupnya menghasilkan kedap yang sekata?
Ya, cincin lug kimpalan mengekalkan getah penutup dalam keadaan segi empat tepat terhadap plat tiub.

Soalan 5. Kuantiti pesanan minimum (MOQ) dan tempoh penghantaran?
10 unit, 7–15 hari.

• Jenis: pelepasan pantas 6-lug
• Media: polieste / PTFE / nano / FR / anti-statik
• DJ: ø325 mm piawai
• Panjang: 600/660/1000 mm dan tersuai
• MOQ: 10 Pcs